1. Proceso de dopaje láser SE
Objetivo:El proceso de dopaje láser de emisor selectivo (SE) mejora la capa emisora en una celda TOPCon de tipo N para reducir la resistencia de contacto y mejorar la eficiencia de conversión.
Mecanismo:La energía láser funde la superficie del silicio, lo que permite que los átomos de boro (B) del vidrio de borosilicato se difundan rápidamente en el silicio, creando una capa altamente dopada. Un alto dopaje en los puntos de contacto reduce la resistencia de contacto, mientras que un dopaje más ligero en otras zonas minimiza las pérdidas por recombinación, mejorando la eficiencia entre un 0,2 % y un 0,4 %.
2. Formación de capas de óxido de túnel y silicio policristalino
Objetivo:Estas capas en la parte posterior de la oblea de silicio crean una estructura de contacto pasivada, crucial para reducir la recombinación y mejorar la eficiencia.
Método:El método de deposición química en fase vapor asistida por plasma (PECVD), preferido en la industria, deposita una película de óxido de silicio de 1-2 nm y una capa de silicio amorfo dopado de 100-150 nm, que cristaliza durante el recocido para formar una capa policristalina. El PECVD ofrece alta velocidad de deposición, menor contaminación y bajo costo, lo que lo convierte en una opción eficaz para la producción en masa.
3. Recubrimiento antirreflectante (ARC)
Objetivo:La estructura dieléctrica multicapa (SiOx/SiONx/SiNx) reduce las pérdidas ópticas y mejora la absorción de luz, aumentando la fotocorriente y la eficiencia.
Beneficios adicionales:El recubrimiento antirreflectante (ARC) proporciona pasivación de la superficie al reducir las tasas de recombinación superficial, prolongar la vida útil de la celda y proteger las capas depositadas previamente (como la alúmina en la parte frontal) de daños y contaminación.
4. Disparo inducido por láser (LIF)
Objetivo:La técnica LIF se utiliza después de la serigrafía para optimizar el contacto entre la pasta metálica y el silicio. Este proceso mejora el contacto óhmico y reduce la resistencia de contacto, lo que optimiza el rendimiento eléctrico.
Impacto:Se ha demostrado que la tecnología LIF aumenta la eficiencia de conversión en un 0,2 % o más, lo que la convierte en una valiosa adición a la fabricación de TOPCon.
Estos pasos clave del proceso ponen de manifiesto las técnicas de fabricación avanzadas de la tecnología TOPCon, que permiten una mayor eficiencia y una estabilidad mejorada en el rendimiento de las células solares.
